高溫爐程控系統由計算機、接口電路、外部通用設備、工業生產對象組成，具體包括硬件結構和軟件結構，硬件結構包括計算機、加熱元件、接口電路、觸發電路、檢測元件和執行機構等。軟件操作方式和用戶界面都是根據用戶的特點而設計的，用戶在使用時操作簡單、方便、靈活。主要用于各工礦企業、科研單位化驗室、實驗室加溫、熱處理，是各類化驗室中*的儀器設備。設備特點升溫快：1000C爐型由100C升溫至1000C，小于30分鐘；1700度爐100C升溫至1700C，小于90分鐘。效率高：作實驗爐用時，......

真空氣氛保護爐是針對工業領域日常應用研發的，的焙燒效果、現代化的外型設計及高度的可靠性是此類電爐的突出特色。產品以進口電阻絲為加熱元件，爐膛采用進口氧化鋁多晶體纖維材料。采用微電腦微電腦控制，操作方便，可編程，自動升溫、自動保溫、自動降溫。真空氣氛保護爐主要應用于電真空、航空航天、電力電子、機械加工行業。可對不銹鋼、無氧銅、金屬化陶瓷件、軸類零件的垂直熱處理和其它模具鋼、合金鋼、汽車零部件等機械零件在預抽真空氮氣保護氣氛下無氧化回火、光亮退火以及銅和銅合金的光亮熱處理之用。儀......

氣氛保護爐，又稱氣氛爐，由馬弗爐演化而成。主要的目的是在高溫燒結的情況通入某種特定氣體用于特殊熱處理，或者對熱處理的樣品進行保護防止氧化。目前市場上使用氣氛保護多以防止氧化為主。適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。產品結構該箱式爐主要由爐殼、爐襯、加熱元件、爐底板、爐門及......

高溫爐程控系統由計算機、接口電路、外部通用設備、工業生產對象組成，具體包括硬件結構和軟件結構，硬件結構包括計算機、加熱元件、接口電路、觸發電路、檢測元件和執行機構等。軟件操作方式和用戶界面都是根據用戶的特點而設計的，用戶在使用時操作簡單、方便、靈活。主要用于各工礦企業、科研單位化驗室、實驗室加溫、熱處理，是各類化驗室中*的儀器設備。高溫爐程控系統采用交流電供電、可控硅的連接電路，由觸發電路產生一個同步脈沖，由1-2端與雙向可控硅相連，RDS為快速熔斷器，其作用為可控硅的過電流......

立式真空管式爐均系采用技術研制開發的高性能高節能的新型電爐，有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐型等。立式真空管式爐均系周期作業式。供實驗室、工礦企業、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。本系列設備的成套供應范圍有溫度控制器、熱......

立式真空管式爐均系采用技術，自行研制開發的高性能高節能的新型電爐，有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐型等。立式真空管式爐各獨立的加熱區均配備有熱電偶、數顯式智能調節器（PID）和可控硅組成的閉環控制系統，可實現自動控溫，操作起來也很方便。針對實驗的使用要求，裝卸料采用間歇......

管式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和多段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，管式爐爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，管式爐雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用耐高溫不銹鋼、兩端用不銹鋼法蘭密封，可通氮氣、氫氣、氨氣、氯氣等，用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。碳硫分析儀與管式爐配套使用，能快速、地測定鋼、鐵及其合金、有色金屬、水泥、礦......

高溫真空氣氛爐主要用途冷熱作模具鋼、高速鋼、彈性合金、高溫合金、馬氏體不銹鋼、鈦合金、磁性材料等材料的高壓氣淬以及真空燒結、真空釬焊等工藝。高溫真空氣氛爐可以對航空航天工業及其他機械工業所使用各類零部件進行相關的熱處理，如：18CrNi8、12Cr2Ni4A、12Cr2Ni3A等高合金滲碳鋼的滲碳及滲碳后的淬火、機構滲碳鋼的滲碳及滲碳后的淬火、工模具鋼、精密軸承、油泵油嘴機械件、精密機器零件等各種結構鋼的油淬、氣冷、回火、退火等。高溫真空氣氛爐內冷卻水不及時排空，很容易把機器......